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三星披露最新工艺进展和路线图 3nm GAA性能路线公开

近日举办的三星代工论坛2021大会上,三星披露了最新工艺进展和路线图。FinFET晶体管结构的潜力几乎已被挖掘。三星下一步就是用GAA环绕栅极

中关村在线 2021-10-09 13:33:15