随着先进制程芯片上量(包括逻辑芯片和存储器),芯片制造端的高技术含量规模也在不断扩大,其中,最具代表性的就是EUV光刻机,市场对其需求
在上月的ITF大会上,半导体行业大脑imec(比利时微电子研究中心)公布的蓝图显示,2025年后晶体管进入埃米尺度(Å,angstrom,1埃 = 0 1纳
据外媒最新报道称,ASML已经开始制造新一代极紫外(EUV)光刻机,其每台造价达到了1 5亿美元,约合人民币近9 7亿元。据悉,在位于美国康涅狄
据韩国媒体 BusinessKorea 报导,韩国产业通商资源部于 5 月 13 日对外宣布,全球光刻机龙头大厂阿斯麦(ASML)计划在韩国建设光刻设备
继本月15日就EUV光刻机出口管制发表看法后,荷兰ASML(阿斯麦)CEO温彼得(Peter Wennink)在23日再次表达了自己的意见。他强调的一个重点是,
半导体制造中最关键的设备就是光刻机,7nm以下的先进工艺中都离不开EUV光刻机,现在全球都要靠荷兰ASML(阿斯麦)公司供应,每台机器都价值不