当前位置：首页 > 10nm以下,关于10nm以下的所有信息

SK海力士：DRAM内存或引入EUV极紫外光刻 可将工艺制程推进10nm以下

存储大厂SK海力士的CEO李锡熙(Seok-Hee Lee)近日在IEEE国际可靠性物理研讨会上发表主题演讲，分享了在闪存、内存未来发展方面的一些规划和

快科技 2021-03-25 10:23:06